ホーム 会社概要 プロダクト サービス パートナー アクセス

ハイスループット成膜装置


 コンビナトリアルスパッタ成膜装置  
コンビナトリアル・スパッタ装置
 CMS-6420
(PDF)
 

1. 2インチマグネトロン・スパッタ・カソードを6基装備

2. プロセスラインに適合する4インチ基板可

3. 2元&3元コンビ組成傾斜成膜可能

4. 650℃での昇温成膜可能

5. 1 X 10-6 Pa 以下の超高真空排気

6. DC/RF電源の自由な組合せ

7. 全自動成膜制御


8. 1000℃までのポストアニーラ (option)


超小型コンビPLD装置  
超小型コンビPLD装置
 


1.
パルスレーザーによる原料の蒸発、マスクによる基板上への堆積の制御

2. 半導体レーザー基板加熱による超高温・温度傾斜プロセスの制御

3. 独自の工夫を満載したコンビナトリアルPLDは進化に進化を重ね、市販機として成熟しました

4. 放射光施設など既存機器への接続経験が豊富です

5. レーザーも含めall-in-oneパッケージですので、納入後、即実験が可能です


コンビナトリアル酸化物作成装置(PLD) 

コンビナトリアル酸化物作成装置(PLD) 
 

1. パルスレーザ堆積装置を使ったコンビナトリアル合成装置。

2. 3元の酸化物材料のすべての組成を中心の3角形の中に実現します。

 

コンビナトリアル金属膜作成装置(IBD) 
コンビナトリアル金属膜作成装置(IBD)
 

1. イオンビームスパッタを使ったコンビナトリアル合成装置。

3元の金属合金のすべての組成を中心の3角形の中に実現します。